＜Novec＞HFEは、3M社が特定フロン代替溶剤として開発した物質です。

フッ素系溶剤　HFE

特徴

• 適度な溶解性を持ち、パーティクル（塵埃）の除去性能に優れます。
• 表面張力・粘度が低く、優れた浸透性により微細な隙間の洗浄性に優れます。
• 低沸点で蒸発潜熱が小さいため低温での乾燥性に優れ、被洗浄物へ熱的ダメージを抑えられます。
• 溶剤ベーパーによる仕上リンスで、シミの発生を抑えることができます。
• 蒸留再生により溶剤のリサイクルが可能です。
• 一液で浸漬洗浄から蒸気洗浄まで対応が可能です。
• 引火点がなく不燃性で、洗浄装置の小型化・省スペース化が可能です。
• クリーンルームでの精密洗浄に適します。
• 各種部材との適合性に優れ、ほとんどの樹脂、金属に影響を与えません。
• 実用上無毒で安全性が高く、良好な作業環境が保たれます。
• オゾン破壊係数がゼロで、温暖化係数も低く、環境負荷を低減します。

「＊対象設備により、"大気汚染防止法"に基づく規制の該当、非該当がかわりますので、法規制をご確認ください。」

用途

[半導体･液晶]

各種半導体製造装置のメンテナンス洗浄（フッ素系堆積物【デポジット】の除去）
露光装置、ドライエッチング装置、スパッタリング装置、CVD装置、
イオン注入装置などのフッ素系汚れが付着する部品洗浄
半導体ウェハー、キャリアケース洗浄、　ガラス基板、液晶セル洗浄
（フッ素系の汚れの除去、塵埃の除去に優れた特性をもちます。）

[電子デバイス]

電子デバイスの除塵洗浄（パーティクル除去）
CCD・CMOSセンサーチップ及びモジュール、水晶振動子、水晶発振モジュール
WL-CSP・ウェハーやMEMSなどの微細構造物、LSI、ICチップ、フリップチップ、
実装基板、FPC、太陽電池、各種センサー関係

[精密機器部品]

精密部品の脱脂・乾燥（炭化水素系溶剤とのコ・ソルベント）
液晶セル・パネル洗浄、HDDスピンドル、磁気ヘッド、ミニチュアモーター、
ミニチュアベアリング、自動車・エンジン部品、OA機器、光学レンズ・ミラー、

[その他]

水洗浄後の水切り・乾燥（低温置換乾燥）

ハイドロフルオロエーテルとは

常温で液相、エーテル結合を持ち、熱的・化学的安定性に優れ、かつ、適度な溶解力を持つフッ素系溶剤です。
EPA（米国環境保護局）の定める特定フロン代替物リスト（SNAPリスト）の洗浄・冷媒分野で、HFE-7100とHFE-7200はAcceptable（制限なしに利用可）となっています。

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【臭素系溶剤】　ABZOL JG 塩素系溶剤代替洗浄剤アブゾール

特長

• 優れた洗浄性
  塩化メチレン、トリクロロエチレン等の塩素系溶剤に匹敵する高い脱脂力を有しています。
  また、表面張力・粘度が低いため濡れ性が良く、洗浄ワークの狭い空隙や止り穴の開口部への浸透性に優れます。
• 優れた乾燥性
  塩素系溶剤と同様に速乾性に優れ、作業効率のアップが図れます。
• 不燃性
  引火点がなく不燃性ですので、消防法の危険物に該当しません。
• 安定性
  ほとんどの金属、セラミックス、ガラスに影響を与えません。また、熱分解、加水分解に対しても高い安定性を示します。
• リサイクル
  溶剤を蒸留再生することにより、ランニングコストを低く抑えられます。
• 環境特性
  オゾン破壊係数（ODP）、地球温暖化係数（GWP）がともに低く、また、生分解性が早く、環境に対する影響が極めて低いといえます。
• 法令
  化審法、労働安全衛生法、水質汚濁、土壌汚染、PRTR法等のほとんどの法規制は受けません。

用途

• 塩化メチレン、トリクロロエチレンの代替洗浄剤です。
• 金属加工部品、電子部品、精密部品、及びセラミック・ガラス等の脱脂洗浄
• フラックス、油脂類の洗浄
• 光学レンズ・部品洗浄、ワックスの剥離
• シリコンオイル、グリースの洗浄

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